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대전방지장치 : CO2 BUBBLER

- 초순수의 정전기 제어
- 중공사 기체 투과막(Membrane Module) 사용
- CO2를 초순수에 용해시켜 비저항 수치 조절
- 간단한 시스템 제어 및 낮은 고장율
(이산화탄소는 대기상태에서 부피비중이 낮아 물에 잘 녹으면서, 초순수의 수질을 악화시키지 않고 비저항을 낮출 수 있다.)

적용분야

분야 용도 효과
LSI
LCD
OLED
- 디스플레이 세정(Display cleaning)
- 마스크 세정(Mask cleaning)
- 고압 세정(High pressure cleaning)
- 셀 세정(Cell cleaning)
- 다이싱 공정의 세정(Cleaning in dicing process)
- 정전기에 따른 먼지 재 부착 방지
- 기판 패턴(정전기 파괴)의 방지
1000sl640x480
  • 1000SL (1.2L/min)
  • – 처리 유량 : 0.7~1.2 L/min
  • – 비저항 조정범위 : 0.1~1.0 ㏁·㎝
  • – 원수 압력 : 0.05~0.4 MPa(상용) Max. 0.5 MPa
  • – 탄산가스 공급압력 : 0.2 MPa 미만
  • – 탄산가스 설정압력 : 0.05~0.15 MPa (순도 99.5%이상)
  • – 원수 온도 : 20~30 ℃
  • – 전원 : DC 24 V (0.2A)
  • – 접지 : D종 접지 이상
  • 주문 제작으로 대표 모델의 사양은 변동될 수 있습니다.
  • 20lu-640x480
    • 20LU (20L/min)
    • - 처리 유량 : 3~18 L/min
    • - 비저항 조정범위 : 0.1~1.0 ㏁·㎝
    • - 원수 압력 : 0.05~0.4 MPa(상용) Max. 0.5 MPa
    • - 탄산가스 공급압력 : 0.2 MPa 미만
    • - 탄산가스 설정압력 : 0.05~0.15 MPa (순도 99.5%이상)
    • - 원수 온도 : 20~30 ℃
    • - 전원 : DC 24 V (0.2A)
    • - 접지 : D종 접지 이상
  • 주문 제작으로 대표 모델의 사양은 변동될 수 있습니다.
  • 25a-2640x480
    • 25A (25L/min)
    • - 처리 유량 : 3~22 L/min
    • - 비저항 조정범위 : 0.06~0.1 ㏁·㎝
    • - 원수 압력 : 0.05~0.30MPa(상용) Max. 0.35MPa
    • - 탄산가스 공급압력 : 0.2 MPa 미만
    • - 탄산가스 설정압력 : 0.05~0.15 MPa (순도 99.5%이상)
    • - 원수 온도 : 20~30 ℃
    • - 전원 : DC 24 V (0.2A)
    • - 접지 : D종 접지 이상
  • 주문 제작으로 대표 모델의 사양은 변동될 수 있습니다.
  • 2640x480
    • UCL-50A (50L/min)
    • - 처리 유량 : 0~50 L/min
    • - 비저항 조정범위 : 0.5~20.00 ㏁·㎝
    • - 원수 압력 : 0.05~0.30MPa(상용) Max. 0.4MPa 
    • - 탄산가스 공급압력 : 0.2 MPa 미만
    • - 탄산가스 설정압력 : 0.05~0.15 MPa (순도 99.5%이상)
    • - 원수 온도 : 20~30 ℃
    • - 전원 : DC 24 V (0.2A)
    • - 접지 : D종 접지 이상
  • 주문 제작으로 대표 모델의 사양은 변동될 수 있습니다.