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- ULFA Technology
/ PRODUCT / 멤브레인 / 대전방지장치
- 초순수의 정전기 제어
- 중공사 기체 투과막(Membrane Module) 사용
- CO2를 초순수에 용해시켜 비저항 수치 조절
- 간단한 시스템 제어 및 낮은 고장율
(이산화탄소는 대기상태에서 부피비중이 낮아 물에 잘 녹으면서, 초순수의 수질을 악화시키지 않고 비저항을 낮출 수 있다.)
적용분야
분야 | 용도 | 효과 |
---|---|---|
LSI LCD OLED |
- 디스플레이 세정(Display cleaning) - 마스크 세정(Mask cleaning) - 고압 세정(High pressure cleaning) - 셀 세정(Cell cleaning) - 다이싱 공정의 세정(Cleaning in dicing process) |
- 정전기에 따른 먼지 재 부착 방지 - 기판 패턴(정전기 파괴)의 방지 |

- 1000SL (1.2L/min)
- – 처리 유량 : 0.7~1.2 L/min
- – 비저항 조정범위 : 0.1~1.0 ㏁·㎝
- – 원수 압력 : 0.05~0.4 MPa(상용) Max. 0.5 MPa
- – 탄산가스 공급압력 : 0.2 MPa 미만
- – 탄산가스 설정압력 : 0.05~0.15 MPa (순도 99.5%이상)
- – 원수 온도 : 20~30 ℃
- – 전원 : DC 24 V (0.2A)
- – 접지 : D종 접지 이상

- 20LU (20L/min)
- - 처리 유량 : 3~18 L/min
- - 비저항 조정범위 : 0.1~1.0 ㏁·㎝
- - 원수 압력 : 0.05~0.4 MPa(상용) Max. 0.5 MPa
- - 탄산가스 공급압력 : 0.2 MPa 미만
- - 탄산가스 설정압력 : 0.05~0.15 MPa (순도 99.5%이상)
- - 원수 온도 : 20~30 ℃
- - 전원 : DC 24 V (0.2A)
- - 접지 : D종 접지 이상

- 25A (25L/min)
- - 처리 유량 : 3~22 L/min
- - 비저항 조정범위 : 0.06~0.1 ㏁·㎝
- - 원수 압력 : 0.05~0.30MPa(상용) Max. 0.35MPa
- - 탄산가스 공급압력 : 0.2 MPa 미만
- - 탄산가스 설정압력 : 0.05~0.15 MPa (순도 99.5%이상)
- - 원수 온도 : 20~30 ℃
- - 전원 : DC 24 V (0.2A)
- - 접지 : D종 접지 이상

- UCL-50A (50L/min)
- - 처리 유량 : 0~50 L/min
- - 비저항 조정범위 : 0.5~20.00 ㏁·㎝
- - 원수 압력 : 0.05~0.30MPa(상용) Max. 0.4MPa
- - 탄산가스 공급압력 : 0.2 MPa 미만
- - 탄산가스 설정압력 : 0.05~0.15 MPa (순도 99.5%이상)
- - 원수 온도 : 20~30 ℃
- - 전원 : DC 24 V (0.2A)
- - 접지 : D종 접지 이상