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탈기장치 : DEGASSING SYSTEM

- 수중 또는 액상의 용존 기체 성분(O2, CO2, N2, H2 등) 제거
- Micro Bubble의 발생을 원천적으로 방지
- 고효율의 기체 분리막(Membrane Module) 사용
- 초순수, 현상액, 유기용제(신나 및 Resist등) 등에 사용
- 독자 설계한 AIR Ejector 방식
- 최대 98%의 탈기율
- 대 유량의 탈기도 가능
- 실시간 탈기 가능

적용분야

분야 용도 효과
반도체 - 현상공정
- 도포공정
- 세정공정
- 공정에 사용하는 용액(Photo resist, Thinner, 현상액 등)을 통한 Micro Bubbler의 발생을 사전에 차단하여 Wafer, 패턴, Contact Hole 위에 Micro Bubbler이 부착되는 것을 차단
- 공정의 효율 증가, 불량률 감소
산업 - 정밀부품 세정공정
- Display(LCD, OLED 등) 세정공정
- 보일러 순환수
- 빌딩 급수관
- 섬유 염색
- 세정액의 침투력을 향상, 미세한 부분까지 세정 가능
- 세정액 속 용존산소를 제거, 산화막 형성 차단
- 초음파 세정의 충격력을 증가시켜 세정효과 증대
식품 - 식품 제조 조리수
- 두부 충진수
- 즉석 밥
- 음료, 주류
- 수분의 침투력 향상 및 조리 온도가 낮아져 효율적 작업 가능
- 취반시 쌀의 불림시간이 줄어 작업 효율 증가
- 콩나물과 새싹 등의 재배기간 단축 및 영양성분 비율 증가
- 용존산소 제거로 식품의 보존기간 증가

산업용 탈기장치

- 음료, 주류, 식품 제조 용수, 건강식품 용 탈기
- 보일러 공급수 탈기
- 진공압력 : -690mmHg ~ -740mmHg (70~20 Torr)
- 처리수 DO : 5[mg/L] 이하 (상온, 표준 유량시)
- 전원 : 3상 AC 220V / 380V
- 소비전력 : 3.3 KW / 3.7 KW / 5.5 KW
pro8
  • UDI-1TA
  • - 표준 유량 : 1 ton/hr
  • UDI-10TA
  • - 표준 유량 : 10 ton/hr
  • 주문 제작으로 사용 환경에 따라 사양 및 모델명이 변경됩니다.
  • 대표 모델 외 사양은 문의 바랍니다.
  • Developer / Thinner 탈기장치

    - 신나 탈기 (반도체/LCD 공정)
    - Photo Resist 탈기 (반도체/LCD / Color Filter)
    - 기타 유기용제의 탈기
    - 진공압력 : -690mmHg (70 Torr)
    - 전원 : 100 ~ 220V AC / DC 24V 1.5A
    - 통신 출력 : RS-232C
    pro6
    • UDO-3006B-3L (Developer)
    • - 표준 유량 : 1.7 L/min (모듈 1계통당) Max 3 L/min
    • UDT-156B-3L (Thinner)
    • - 표준 유량 : 50 cc/min (모듈 1계통당) Max 150 cc/min
    • UDT-154B (Thinner)
    • - 표준 유량 : 50 cc/min (모듈 1계통당) Max 300 cc/min
  • 주문 제작으로 대표 모델의 사양은 변동될 수 있습니다.
  • IPA 탈기장치

    - 현상액 탈기(반도체/LCD 공정)
    - 초순수 탈기
    - 프린터용 잉크 탈기
    - 최대 진공압력 : -660mmHg
    - 원수 온도 : 20~30 ℃
    - 전원 : DC 24V
    - 통신 출력 : RS-232C
    udt-152a
    • UDT-152A-2
    • - 탈기 모듈 : SEPAREL PF-13F(P)10K
    • - 탈기 계통 : Max. 2계통
    • - 표준 유량 : 50 cc/min (모듈 1계통당)  Max. 150 cc/min
  • 주문 제작으로 대표 모델의 사양은 변동될 수 있습니다.